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       TFT液晶屏 在(zai)顯(xian)示屏行業中一直(zhi)都是作(zuo)為(wei)(wei)主流(liu)，而(er)它的長存也(ye)絕非(fei)偶然(ran)，無論(lun)從(cong)發光效(xiao)率、全彩色，還是壽命，都已取得了輝煌的成(cheng)果，而(er)且(qie)還在(zai)不斷(duan)深(shen)(shen)化(hua)之中。那它的制造工藝具體分(fen)(fen)為(wei)(wei)哪幾(ji)部(bu)分(fen)(fen)呢(ni)?下面深(shen)(shen)圳(zhen)勛瑞光電科技為(wei)(wei)大家簡(jian)單介紹一下:

TFT液晶屏的制造工藝有以下幾部分：在tft基板上形成tft陣列;在彩色濾光片基板上形成彩色濾光圖案及ito導電層用兩塊基板形成液晶盒;安裝外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝。

1. 在tft基板(ban)上(shang)形成tft陣(zhen)列(lie)的工(gong)(gong)藝 　現已實現產(chan)業化的tft類(lei)型(xing)包括：非晶硅(gui)(gui)(gui)tft(a-si tft)、多晶硅(gui)(gui)(gui)tft(p-si tft)、單(dan)晶硅(gui)(gui)(gui)tft(c-si tft)幾種(zhong)。目(mu)前使用最(zui)多的仍(reng)是a-si tft。a-si tft的制造(zao)工(gong)(gong)藝是先在硼(peng)硅(gui)(gui)(gui)玻(bo)璃基板(ban)上(shang)濺射柵極(ji)(ji)材(cai)料膜，經掩膜曝光、顯影、干法蝕刻后形成柵極(ji)(ji)布(bu)線圖案。

一般掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光用(yong)(yong)步進曝(pu)(pu)光機。第(di)二步是用(yong)(yong)pecvd法(fa)進行連(lian)續成(cheng)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，形(xing)(xing)成(cheng)sinx膜(mo)(mo)(mo)(mo)、非摻(chan)雜a-si膜(mo)(mo)(mo)(mo)，摻(chan)磷n+a-si膜(mo)(mo)(mo)(mo)。然后(hou)再進行掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光及(ji)(ji)干法(fa)蝕(shi)刻(ke)(ke)形(xing)(xing)成(cheng)tft部(bu)分的(de)(de)a-si圖(tu)案。第(di)三步是用(yong)(yong)濺(jian)射成(cheng)膜(mo)(mo)(mo)(mo)法(fa)形(xing)(xing)成(cheng)透明(ming)電(dian)(dian)極(ji)(ito膜(mo)(mo)(mo)(mo))，再經掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光及(ji)(ji)濕(shi)法(fa)蝕(shi)刻(ke)(ke)形(xing)(xing)成(cheng)顯示電(dian)(dian)極(ji)圖(tu)案。第(di)四步柵(zha)極(ji)端部(bu)絕緣膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)接(jie)觸(chu)孔圖(tu)案形(xing)(xing)成(cheng)則是使用(yong)(yong)掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光及(ji)(ji)干法(fa)蝕(shi)刻(ke)(ke)法(fa)。第(di)五步是將al等進行濺(jian)射成(cheng)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，用(yong)(yong)掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光、蝕(shi)刻(ke)(ke)形(xing)(xing)成(cheng)tft的(de)(de)源極(ji)、漏極(ji)以及(ji)(ji)信號線(xian)圖(tu)案。最后(hou)用(yong)(yong)pecvd法(fa)形(xing)(xing)成(cheng)保護(hu)絕緣膜(mo)(mo)(mo)(mo)，再用(yong)(yong)掩膜(mo)(mo)(mo)(mo)曝(pu)(pu)光及(ji)(ji)干法(fa)蝕(shi)刻(ke)(ke)進行絕緣膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)蝕(shi)刻(ke)(ke)成(cheng)形(xing)(xing)，(該保護(hu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)用(yong)(yong)于對柵(zha)極(ji)以及(ji)(ji)信號線(xian)電(dian)(dian)極(ji)端部(bu)和顯示電(dian)(dian)極(ji)的(de)(de)保護(hu))。至(zhi)此(ci)，整個工藝流程(cheng)完成(cheng)。

tft陣(zhen)列工藝(yi)是tft-lcd制造工藝(yi)的關鍵,也是設備投(tou)資最(zui)多的部分。整(zheng)個工藝(yi)要求在很高的凈(jing)化條(tiao)件(jian)(例(li)如10級(ji))下進行。

2. 在彩色(se)濾(lv)光片(pian)(cf)基板上形成(cheng)彩色(se)濾(lv)光圖(tu)案(an)的工(gong)藝 彩色(se)濾(lv)光片(pian)著(zhu)色(se)部分的形成(cheng)方法(fa)(fa)(fa)有染料法(fa)(fa)(fa)、顏料分散法(fa)(fa)(fa)、印刷(shua)法(fa)(fa)(fa)、電解沉積(ji)法(fa)(fa)(fa)、噴墨法(fa)(fa)(fa)。目前以顏料分散法(fa)(fa)(fa)為主。

顏(yan)料分(fen)散法(fa)的(de)第一步是(shi)將(jiang)顆粒(li)均(jun)勻的(de)微細顏(yan)料(平均(jun)粒(li)徑小于0.1μm)(r、g、b三(san)色)分(fen)散在透明感光(guang)(guang)樹脂中。然(ran)后將(jiang)它們依(yi)次用(yong)(yong)涂敷、曝(pu)光(guang)(guang)、顯影工藝方(fang)法(fa)，依(yi)次形成r. g. b三(san)色圖案。在制(zhi)造中使用(yong)(yong)光(guang)(guang)蝕刻(ke)技術，所用(yong)(yong)裝置主要(yao)是(shi)涂敷、曝(pu)光(guang)(guang)、顯影裝置。

為了防止漏光，在rgb三(san)色交界處(chu)一般(ban)都要加黑(hei)矩(ju)陣(bm)。以(yi)往多用濺射法形成單層金屬鉻(ge)膜，現在也有改用金屬鉻(ge)和氧(yang)化鉻(ge)復合型的bm膜或樹脂混合碳的樹脂型bm。

此外，還需要在bm上制做一(yi)層(ceng)保護膜及形成(cheng)it0電(dian)極(ji),由于帶有(you)彩(cai)色(se)(se)濾(lv)光(guang)片的(de)基板是(shi)作為液晶屏的(de)前基板與帶有(you)tft的(de)后基板一(yi)起構成(cheng)液晶盒。所以必須(xu)關(guan)注好定位問(wen)題，使彩(cai)色(se)(se)濾(lv)光(guang)片的(de)各單元與tft基板各像素相對應。

深(shen)圳勛瑞(rui)光(guang)電是一(yi)家(jia)集研(yan)發(fa)、設計(ji)、生產、銷售和服(fu)務為一(yi)體的(de)(de)高新技術(shu)企業，專注(zhu)于工(gong)業顯示屏(ping)(ping)、工(gong)業級觸摸屏(ping)(ping)及(ji)光(guang)學貼合產品研(yan)發(fa)制造，產品廣泛運用在醫療設備、工(gong)業手(shou)持(chi)終端、物(wu)聯網終端以及(ji)智能家(jia)居。在 tft液晶屏(ping)(ping) 、工(gong)業顯示屏(ping)(ping)、工(gong)業觸摸屏(ping)(ping)、以及(ji)全貼合方面擁(yong)有豐富的(de)(de)研(yan)發(fa)、制造經驗，屬于工(gong)控顯示行業領導(dao)者。